半導(dǎo)體芯片表面處理方式有哪些

    半導(dǎo)體芯片表面處理的方式包括：

 

1. 液態(tài)二氧化碳清洗。

2.氫氣處理：利用氫氣作為還原劑，通過(guò)反應(yīng)去除硅晶圓表面的氧化物，提高光刻膠的分辨率和精度。
3.氧化處理：利用高溫高壓下的氧氣與硅晶圓表面的硅原子相互作用，生成一層氧化硅薄膜，作為保護(hù)層和載流子注入的強(qiáng)化層。

 

以上方式為半導(dǎo)體芯片表面處理的一部分，可有效提高芯片性能。